旋轉(zhuǎn)圓盤電極Rotating Disk Eleetrode,簡稱RDE,RDE只有一個圓盤,它是一種流體動力學技術(shù)。需要配合旋轉(zhuǎn)圓盤圓環(huán)/電極/裝置（MSR/ASR）使用。 圓盤電極只有一盤,環(huán)盤電極則在圓盤外圍設置一個圓環(huán)，盤與環(huán)之間只有很小的間隙，圓盤或環(huán)盤圍繞中心軸旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速由一個旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)調(diào)節(jié)和測量。在電化學技術(shù)中,用來測電極和電解質(zhì)溶液相對運動，稱流體動力學技術(shù)。 

    旋轉(zhuǎn)圓盤電極通常使用金、鉑金和玻碳作為材料，也有特別研究會使用到石墨等特種材料，或要求使用高溫的旋轉(zhuǎn)圓盤電極。廣泛用于化學電源、電鍍、金屬腐蝕等應用領(lǐng)域和電化學技術(shù)研究上。利用旋轉(zhuǎn)圓環(huán)圓盤電極可以檢測出電極反應產(chǎn)物特別是中間產(chǎn)物的存在形式與生成量，或圓環(huán)電極上捕集到的盤電極反應產(chǎn)物的穩(wěn)定性等，利用這些測量可以探測一些復雜電極反應的機理和獲取更多的電極過程信息。因此在現(xiàn)代電化學測量中是常用的測試手段。電鍍添加劑的作用機理的探討或添加劑性能的比較，都可以用到這種電極來進行測試。 

   在測量時電極浸入測量溶液不宜太深，一般以2～3mm為宜。電極的轉(zhuǎn)速要適當，太慢時自然對流起主要作用，太快時則會出現(xiàn)湍流，不能得到有效參數(shù)。要求在旋轉(zhuǎn)過程中保證電極表面出現(xiàn)層流狀態(tài)。的極限擴散電流密度公式，由V.G.Levich(前蘇聯(lián))于1942年提出，Levich方程如下，極限擴散電流iL是研究電化學動力學的重要參數(shù)。如果在不同轉(zhuǎn)速條件下測得iL值，作iL-ω1/2圖，可求出D；用標準溶液標定后可測反應物種的濃度，常用于定量分析。